リソグラフィ装置、ミラー要素、デバイス製造方法、およびビーム送達システム

【課題】コストおよび改造を最小限に抑えながら、エネルギー出力を最大にするフォトリソグラフィ装置を提供すること。 【解決手段】本発明によれば、放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するパターン形成手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、パターン形成手段を照明することができるように、放射線ビームを調整して調整済み放射線ビームを提供する照明システムと、投影ビームを放射線システムから照明システムまで、方向を変更して送達するための方向変更要素を備えたビーム送達システムとを有するリソグラフィ装置が提供される。放射線ビームは所定の偏光状態を有するように構成され、方向変更要素は放射線ビームの所定の偏光状態に対して放射線損失を最小にするように構成される。 【選択図】図３