Películas delgadas de CNx formadas por PLD a diferentes temperaturas

espanolPeliculas delgadas de nitruro de carbono (CNx) fueron formadas por la tecnica de deposito por laser pulsado (PLD, siglas en ingles). Para la ablacion incidio sobre la superficie del blanco de grafito pirolitico (99.999% de pureza) un laser Nd:YAG (1064 nm, 500 mJ), cuya fluencia del haz se mantuvo a un valor de 10 J·cm-2. Las peliculas se formaron sobre sustratos de Si (100) y en una atmosfera de nitrogeno, y a tres valores diferentes de temperatura del sustrato (21, 50 y 200° C). Durante el crecimiento de estas peliculas se mantuvo la presion del gas ambiente constante (2,66 Pa). Tambien se analizaron las propiedades mecanicas y quimicas de las peliculas mediante microscopia de fuerza atomica (AFM, por sus siglas en ingles), espectroscopia infrarroja (FTIR), energia dispersiva de rayos X (EDX) y nanoindentacion. El analisis de FTIR revela la presencia de modos activos alrededor de 1108 cm-1, 1465 cm-1, 2270 cm-1, asociados a enlaces simples, dobles y triples de CN, respectivamente. Por medio de EDX, se estudio la composicion quimica de las muestras, encontrandose bajos contenidos de nitrogeno, con una variacion entre el 3 y 6 %at. Las propiedades mecanicas fueron evaluadas mediante la tecnica de nanoindentacion. La mayor dureza de las muestras fue de 14 GPa, obtenida para la muestra formada a una temperatura del sustrato de 200o C. EnglishCarbon Nitride (CNx) thin films were grown by pulsed laser deposition using a Nd:YAG laser (1064 nm, 500mJ), in a graphite target (99.999%) on Si(100) substrate for three different temperatures 21, 50 and 200 °C, in a nitrogen atmosphere at constant pressure of 2,66 Pa. The FTIR�s analysis made to the films, revealed the presence of active modes around 1108 cm-1, 1465 cm-1, 2270 cm-1, associated with the simple, double and triple bonding of CN, respectively. Chemical composition was studied by EDX analysis, low nitrogen contents were found between 3 and 6 at%. And the mechanical properties of the films were evaluated using nanoindentation technique. The highest hardness was 14 GPa at 200 oC substrate temperature.