化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】一般式（ｂ１−１４）で表される化合物；かかる化合物からなる酸発生剤；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、該酸発生剤成分（Ｂ）はかかる化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物。式中、Ｒ ７ ”〜Ｒ ９ ”の内少なくとも１つは水素原子の一部又は全部がアルコキシアルキルオキシ基又はアルコキシカルボニルアルキルオキシ基で置換された置換アリール基等であり；Ｘ − はアニオンである。 【選択図】なし