Dispositif de traitement au plasma, structure d'electrode associee et structure etagee

L'invention se rapporte a une structure d'electrode concue pour un dispositif permettant de traiter avec un plasma une piece a travailler (W), dans une chambre de traitement (26) et sous vide. Une electrode (38) comportant un element chauffant (44) est couplee a un bloc de refroidissement (40) possedant une chemise de refroidissement (58) concue pour refroidir l'electrode. Un organe d'etancheite metallique (66A, 66B) resistant a la chaleur recouvre l'electrode dans un espace (62, 64) de transfert de la chaleur, forme entre l'electrode et le bloc de refroidissement. Une source d'alimentation en gaz (94) disposee du cote de l'electrode alimente ledit espace (62, 64) avec un vehicule thermique. Cette structure d'electrode permet de maintenir hermetiquement l'electrode dans ledit espace a une temperature elevee superieure a 200 DEG C, et meme a une temperature comprise entre 350 et 500 DEG C, et egalement d'empecher les fuites de gaz.