銦、錫金屬、合金與其氧化物的陽極拋光行為探討

本研究在探討銦、錫金屬、合金及其氧化物的電化學拋光行為。利用動態陽極極化行為的掃瞄及探討，找出不同系統中合適的拋光條件，而陽極定電位實驗則是用來驗證結果。金屬和合金電化學拋光的觀念應用在金屬氧化膜的系統，如ITO (銦錫氧化物)薄膜電化學拋光的可行性評估 。 由金屬銦的電化學拋光結果顯示，含有G2和S2代號成分為合適的溶液配方。成分代號G用來調整溶液的黏滯性，成分代號S則是作為鈍化劑(passivator)及參雜劑(contaminant)。鈍化劑可促進鈍化膜的生成，但參雜劑(contaminant)則破壞鈍化膜。鈍化及破壞氧化膜兩種機制的協調所引起的電解拋光而造成平滑及光亮的表面。 含有這種系列成分的溶液在銦錫氧化膜（ITO）的電解拋光應用上是可行的，其表面粗糙度（Rmax）可由拋光前的16nm降低為拋光後的9nm。