Alliages métalliques ternaires avec stoechiométries ajustables

La presente invention concerne des procedes et un equipement pour former des alliages metalliques ternaires. Dans certains modes de realisation, des couches minces de TaCN sont deposees par exposition d'un substrat a des impulsions alternees d'un precurseur de tantale organometallique comprenant de l'azote et du carbone et un plasma a hydrogene. La stœchiometrie de la couche mince est ajustee de riche en carbone a riche en azote en ajustant les parametres du plasma, en particulier l'intensite du plasma. De cette facon, des couches minces ayant des caracteristiques variees peuvent etre formees a partir du meme precurseur. Par exemple, des materiaux de type n et de type p peuvent etre deposes dans le meme module en utilisant le meme precurseur.