Old Web
English
Sign In
Acemap
>
Paper
>
Особенности магнетронного распыления металлов в присутствии реактивных газов
Особенности магнетронного распыления металлов в присутствии реактивных газов
2017
И В Дермель
К А Шашкеев
Keywords:
Cavity magnetron
Sputter deposition
Semiconductor
Oxide
Optoelectronics
Materials science
Correction
Source
Cite
Save
Machine Reading By IdeaReader
0
References
0
Citations
NaN
KQI
[]