Technique for creating a different mechanical deformation by forming a Kontaktätzstoppschichtstapels with differently modified internal stress

Durch teilweises Entfernen einer Atzstoppschicht und einer Beschichtung, die eine Atzselektivitat zu der Atzstoppschicht aufweist, vor der Ausbildung einer ersten Kontaktatzstoppschicht kann ein verbesserter Spannungsubertragungsmechanismus in einem Integrationsschema zum Erzeugen einer Verformung mittels Kontaktatzstoppschichten bereitgestellt werden. Somit kann ein Halbleiterbauelement mit unterschiedlichen Transistortypen bereitgestellt werden, wobei ein hohes Mas an Metallsilizidintegritat sowie ein auserst effizienter Spannungsubertragungsmechanismus erreicht wird.