液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。 【解決手段】塩基解離性基を有する構成単位（ｆ１）および特定構造で表される構成単位（ｆ２）を有する含フッ素高分子化合物（Ｆ）、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有する液浸露光用レジスト組成物。 【選択図】なし