Verfahren zur Regelung des Reaktivgasflusses in reaktiven plasmagestützten Vakuumbeschichtungsprozessen

Der Erfindung, die zwei Verfahren zur Regelung des Reaktivgasflusses in reaktiven plasmagestutzten Vakuumbeschichtungsprozessen, bei dem eine Regelgrose, die durch ein Plasma des Vakuumbeschichtungsprozesses bestimmt wird, aus der Vakuumkammer als Regelstrecke mittels optischer Spektroskopie in einem Messglied erfasst wird und die dem Vakuumbeschichtungsprozess zugefuhrte Menge eines Reaktivgases als Stellgrose eingestellt wird und eine Anordnung zur Regelung des Reaktivgasflusses in reaktiven, plasmagestutzten Vakuumbeschichtungsprozessen betrifft, liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Anordnung zu schaffen, die jeweils mit dem Regelvorgang der Reaktivgasregelung einen derart stabilen Arbeitspunkt der Prozessparameter ermoglicht, der gezielt einstellbare, reproduzierbare Stochiometrieverhaltnisse in der abgeschiedenen Schicht bewirkt. Dies wird dadurch gelost, dass die Regelgrose ein Rechenwert aus einem Messwert der Intensitat einer Spektrallinie der Teilchenstrahlung des prozessbeteiligten Beschichtungsmaterials und einem Messwert der Intensitat einer Spektrallinie der Teilchenstrahlung des Reaktivgases ist oder ein Rechenwert aus einem zu ermittelnden Wert der entsprechenden Teilchenzahlen ist. In der Anordnung enthalt das Messglied ein akustisch-optisches Spektrometer mit einem Steuereingang, der mit einem Reglerausgang verbunden ist.