Oxydes conducteurs transparents pour pulvérisation réactive d'oxyde de zinc sur des substrats a grande surface

De facon generale, la presente invention fait intervenir une ou des anodes refroidies couvrant un ou des tubes d'introduction de gaz, anodes et tubes d'introduction de gaz englobant un espace de traitement defini entre une ou des cibles de pulverisation et un ou des substrats a l'interieur d'une chambre de pulverisation. Les tubes d'introduction de gaz peuvent presenter des sorties qui dirigent le gaz introduit a l'ecart du ou des substrats. Ces tubes d'introduction de gaz peuvent introduire un gaz reactif tel que de l'oxygene dans la chambre de pulverisation pour depot de films d'oxydes conducteurs transparents par pulverisation reactive. Lors d'une operation de pulverisation a phase multiple, le flux de gaz (volume et type de gaz), l'espace entre la cible et le substrat et la puissance en courant continu peuvent etre modifies en fonction du resultat recherche.