犠牲膜形成用組成物、パターン形成方法、犠牲膜及びその除去方法

2004 
【解決手段】 (A)式(1)及び(2)並びに必要により式(3) X−Y−SiZ 3 (1) (Zは加水分解性基、Xは有機架橋性官能基、Yは単結合又は2価の炭化水素基。) R n SiZ 4-n (2) (Zは加水分解性基、Rは水素原子又は1価炭化水素基。nは0〜3の整数。) P−SiZ 3 (3) (Zは加水分解性基、Pは熱分解により容易に分解揮発する置換基。) で示される加水分解性シランの共加水分解縮合物 (B)架橋剤 (C)酸発生剤 (D)増量剤又は加熱により容易に分解揮発する有機樹脂成分 (E)有機溶剤 を含有してなる犠牲膜形成用組成物。 【効果】 本発明の組成物を用いることによって、保存安定性、フィリング特性、密着性、塗膜の均一性に優れ、またストリップ液に対する溶解性の高い犠牲膜を得ることができる。 【選択図】 なし
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