One kind of high aspect ratio micro-EDM method for preparing an array of electrodes

本发明涉及一种高深宽比微细电火花阵列电极的制备方法，其步骤包括：在钨基片的背面制作保护层、粘附层和电铸的种子层；在钨基片正面制作硬掩膜；在硬掩膜上涂覆光刻胶并曝光显影，然后刻蚀硬掩膜实现掩膜图形化的转移，并在表面涂覆光刻胶保护层；在钨基片背面利用种子层进行电铸，形成微细电极支撑结构，优选采用UV-LIGA工艺制备该支撑结构；去除钨基片正面的光刻胶保护层，采用等离子深刻蚀方法制备钨微细电极；去除钨基片正面的硬掩膜和钨基片背面多余的保护层、粘附层和种子层，得到由钨微细电极和微细电极支撑结构组成的高深宽比微细电极。 本发明能够增加微细电极的实际深度，进而充分利用钨电极，提高微细电火花加工的深宽比。