Inspection de nanostructures

La presente invention concerne un dispositif d'inspection d'une matrice de nanostructures a l'aide de repetitions periodiques de motif, comprenant : un element optique de focalisation concu pour focaliser un premier faisceau laser collimate paraxial a l'aide d'une premiere ceinture a un point focal ; une lentille aspherique concue pour transformer le faisceau laser focalise dans un second faisceau laser collimate paraxial a l'aide d'une ceinture plus petite que la premiere ceinture destine a eclairer une pluralite de repetitions de motifs et a collecter une lumiere laser diffractee provoquee par la diffraction du second faisceau laser dans les repetitions de motif eclaires ; un element optique de redirection concu pour rediriger au moins une partie de la lumiere laser diffractee a partir de la lentille aspherique vers un dispositif de detection de champ lointain destine a obtenir un diagramme de diffraction et a comparer le diagramme de diffraction obtenu a un diagramme de diffraction de reference.