EPITAXIAL GROWTH AND ELECTRODE IMPEDANCE OF COPPER ELECTRODEPOSITS
1984
Impedanzmessungen bestatigen, das bei der Elektrokristallisation von Cu in angesauerter 1.25 M Sulfatlosung an polykristallinen Elektroden sowie an (l l l)-, (I I0)- und (ION-Einkristallen die Reduktion des Cu" durch 2 aufeinanderfolgende Ladungsubertragungsreaktionen erfolgt.
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