Appareil de depot pour assurer un dielectrique a faible constante uniforme

La presente invention a trait a des ameliorations dans une enceinte de depot chimique en phase vapeur active par plasma pour assurer une meilleure uniformite en epaisseur de couche et une meilleure resistance mecanique. Une surface de contact inferieure est prevue au bord exterieur de la tranche et une distribution de gaz non uniforme se produit grâce a des ajustements a la plaque de distribution de gaz pour assurer cette uniformite.