氧化锌铝(ZAO)陶瓷靶材制备及其薄膜性能
2008
溶胶-凝胶方法制备的ZnO和Al2O3混合粉末经冷压预成型加真空低压烧结,制备了高致密度(相对密度99%)、低成本的ZAO陶瓷靶材。研究了ZAO靶材与无氧铜的粘接性能。用中频交流磁控溅射ZAO靶材的工艺制备了ZAO薄膜。利用SEM和XRD分析测试了陶瓷靶材断口形貌以及靶材和薄膜的结构。试验结果表明:制得的ZAO靶材具有良好的粘接性和溅射性能,内部组织致密,靶材中有明显的ZnAl2O4相。在优化沉积工艺条件下,制备的ZAO薄膜方块电阻为35n,电阻率可达3.84×10^-4Ω·cm,可见光透过率(A=550nm)可达91.1%。沉积态的ZAO薄膜具有很好的结晶性,并呈现(002)择优取向。ZAO薄膜有明显的紫外吸收限,带隙Eg约为3.76eV。ZAO靶材的工业化磁控镀膜试验也取得了较好的结果。
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