Procédé de formation de motifs au moyen de copolymères à blocs et articles associés

L'invention concerne un procede de formation de motifs sur une structure stratifiee, qui comprend la mise en œuvre d'une photolithographie pour obtenir une couche a motif preforme developpe sur une surface horizontale d'un substrat sous-jacent, la modification de la couche a motif preforme pour former des guides de materiaux inorganiques separes, la coulee et la recuisson d'une couche de copolymere a blocs a auto-assemblage pour former des elements cylindriques espaces lateralement, la formation d'un motif par retrait selectif d'au moins une portion d'un bloc du copolymere a blocs a auto-assemblage, et le transfert du motif sur le substrat sous-jacent. Le procede convient a la fabrication de structures stratifiees a motifs de moins de 50 nm.