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193nm液浸リソグラフィー装置用高屈折率を有するBaLiF 3 単結晶の育成とその評価
193nm液浸リソグラフィー装置用高屈折率を有するBaLiF 3 単結晶の育成とその評価
2008
satou hiroki
takahasi kazuya
mabuti tosiaki
nawata teruhiko
inui youzi
syouda isao
nisizima eiiti
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