Systeme d'eclairage destine a un appareil d'exposition de projection microlithographique

L'invention concerne un systeme d'eclairage (12) d'un systeme d'exposition microlithographique. Ce systeme d'eclairage comprend une pluralite d'elements emetteurs de lumiere (24) qui sont des facettes de sortie de lumiere placees dans ou a proximite d'un plan de champ (OP) ou d'un plan de pupille et sont configures pour etre actives individuellement. Des elements collecteurs de lumiere, par exemple, des microlentilles d'une lentille a effet « oeil de mouche » ou des reseaux de lentilles cylindre, peuvent etre utilises pour collecteur les faisceaux de lumiere par les elements emetteurs de lumiere (24). Des moyens d'homogeneisation, par exemple, un integrateur a bâtonnets ou un element de trame (40), permettent d'ameliorer l'uniformite d'intensite dans un plan reticule (RP).