Etching solution for silicon substrate

본 발명은 실리콘 기판 식각 용액에 관한 것이며, 보다 상세하게는 실리콘 질화막의 식각시 실리콘 산화막에 대한 패시베이션 효과를 부여하여 실리콘 산화막 대비 실리콘 질화막에 대한 선택비를 높임과 동시에 식각 용액 중 별도의 실리콘 첨가제를 사용하지 않음에 따라 실리콘계 파티클이 생성되는 것을 방지할 수 있는 실리콘 기판 식각 용액에 관한 것이다.