Métrologie de l'endommagement laser des composants optiques en silice en régime nanoseconde

Cette these porte sur l'endommagement laser de composants optiques en silice amorphe en regime nanoseconde. Ce materiau dielectrique est l'un des plus couramment utilises en optique et notamment sur des installations laser de haute energie telles que le Laser MegaJoule. Afin de garantir le fonctionnement nominal d'une installation, l'endommagement laser des composants optiques doit etre compris et maitrise. Ce phenomene induit une modification irreversible du materiau modifiant la propagation du faisceau. Dans le regime nanoseconde, l'endommagement laser de la silice est correle a la presence de defauts precurseurs qui sont une consequence de la synthese et du polissage des composants. L'interaction de ces precurseurs avec le laser va dependre des caracteristiques de ce dernier. Une premiere etude est consacree a la metrologie des impulsions utilisees en laboratoire pour etudier l'endommagement laser. Une seconde etude porte sur les mecanismes d'amorcage des dommages sur la face de sortie des composants optiques faits de silice. Une derniere partie porte sur l'influence de la propagation non lineaire sur l'endommagement surfacique et volumique des composants epais faits de silice.