液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および含フッ素共重合体

2008 
【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素共重合体、それを含有する液浸露光用レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、下記一般式(c1−1)で表される構成単位を有する含フッ素共重合体(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 【選択図】なし
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