マスクデータ処理方法、半導体装置の製造方法、及びマスクデータ処理を実行するプログラム

【課題】半導体集積回路のマスクデータ処理における計算量を削減してターン・アラウンド・タイムを短縮することが可能なマスクデータ処理方法を提供する。 【解決手段】マスクデータ処理方法は、それぞれが設計パターンを有する複数のセルを含んだ階層構造を有する設計データに対して、当初の階層構造を有する設計データに前記マスクデータ処理の計算を実行するS182と、前記計算が実行される設計パターンの図形数またはエッジ長の合計、或いは実行される計算量、或いは展開度が所定の閾値以上となることが予測される場合S183に、前記計算が実行される設計パターンの前記図形数または前記エッジ長の合計、或いは実行される前記計算量、或いは前記展開度が減少するように前記階層構造を修正するS185。 【選択図】図１８