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HfO 2 コントロール酸化膜を有するNiSiドット/Si量子ドット積層ハイブリッドフローティングゲートMOSキャパシタにおける電子注入特性
HfO 2 コントロール酸化膜を有するNiSiドット/Si量子ドット積層ハイブリッドフローティングゲートMOSキャパシタにおける電子注入特性
2009
ikeda ya ou
makihara katunori
島ノ江和広
kawanami akira
nakanisi syou
morisawa naoya
fuzimoto junnin
oota teruo
kanme daisuke
miyazaki seiiti
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