Composition pour électrodéposition métallique comprenant un agent nivelant

L'invention concerne une composition qui comprend une source d'ions metalliques et au moins un agent nivelant incluant un compose polymere d'imidazolium lineaire ou ramifie comprenant le motif structural represente par la formule L1 (L1). Dans la formule, R 1 , R 2 , R 3 sont selectionnes chacun independamment entre un atome H et un radical organique dote de 1 a 20 atomes de carbone, R4 represente un radical organique divalent, trivalent ou multivalent ne comprenant pas de groupe hydroxyle en position a ou β par rapport a l'atome d'azote des noyaux imidazole, et n represente un nombre entier.