空间用GaInP/GaAs/In0.3Ga0.7As(1 eV)倒装三结太阳电池研制
2013
采用阶变缓冲层技术(step-graded)外延生长了具有更优带隙组合的倒装GaInP/GaAs/In0.3Ga0.7As(1.0eV)三结太阳电池材料,TEM和HRXRD测试表明晶格失配度为2%的In0.3Ga0.7As底电池具有较低的穿透位错密度和较高的晶体质量,达到太阳电池的制备要求.通过键合、剥离等工艺制备了太阳电池芯片.面积为10.922cm2的太阳电池芯片在空间光谱条件下转换效率达到32.64%(AM0,25C),比传统晶格匹配的GaInP/GaAs/Ge(0.67eV)三结太阳电池的转换效率提高3个百分点.
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