スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法、並びにスルホニウム塩単量体及びその製造方法

【課題】レジスト溶剤への溶解性が高い、スルホニウム塩含有高分子化合物を提供する。 【解決手段】一般式（１ａ）、（２）及び（３）で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。 （Ｒ 1 はＨ、Ｆ、ＣＨ 3 又はＣＦ 3 を示す。Ｒ 2 〜Ｒ 4 は、いずれか１つ以上は４−フルオロフェニル基である特定の置換基。Ｒ 8 はＨ、又はアルキル基を示す。ｐは０又は１、Ｂは単結合又は２価の有機基を示す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整数、Ｘは酸不安定基を示す。） 【選択図】なし