Old Web
English
Sign In
Acemap
>
Paper
>
Формирование наночастиц в Si, имплантированном ионами цинка и кислорода с последующим отжигом в вакууме
Формирование наночастиц в Si, имплантированном ионами цинка и кислорода с последующим отжигом в вакууме
2021
В. В. Привезенцев
А. Н. Палагушкин
В.С. Куликаускас
В. И. Зиненко
О. С. Зилова
А. А. Бурмистров
Т С Ильина
Д.А. Киселев
А.Ю. Трифонов
А. Н. Терещенко
Correction
Source
Cite
Save
Machine Reading By IdeaReader
0
References
0
Citations
NaN
KQI
[]