Compositions de revetement pour former des films minces isolants

Composition de revetement comprenant (A) un precurseur de silice contenant au moins un element selectionne entre des alcoxysilanes et des polycondensats, prepare a partir de ceux-ci par hydrolyse et polycondensation dans des conditions acides, et (B) un polymere organique contenant au moins 20 % en poids d'un copolymere sequence organique et qui presente un pH se situant dans la region acide ; composition de revetement contenant les composants (A) et (B), un acide dont la valeur de dissociation electrolytique (pKa) est comprise entre 1 et 11, et un sel d'ammonium quaternaire ; et films isolant en silice poreuse, stratifies isolants, structures d'interconnexion et dispositifs semi-conducteurs faits a l'aide de ces compositions.