Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial

En este trabajo se han comparado las deposiciones voltametricas y galvanostaticas 1, 2, 3 de cinc, en medio de cloruros a pH 4, en presencia y ausencia de tiourea (3 10-5M). La deposicion de cinc en la industria se lleva a cabo en condiciones galvanostaticas, de ahi la importancia de su comprension comparandola con la voltametria. En la deposicion voltametrica se han identificado cinco zonas de potencial en las que se distinguen procesos cuyo estudio es esencial para comprender el mecanismo de la electrodeposicion en las condiciones de trabajo. A medida que se avanza hacia potenciales mas negativos se destacan las zonas Z1, de nucleacion Z2, electrodeposicion Z3, activada y la de deposicion masiva con control por transferencia de materia Z4 y Z5 de tendencia a la corriente limite. Se ha encontrado que la deposicion galvanostatica, permite trabajar en un valor de densidad de corriente j (en mAcm-2) en donde evoluciona el potencial hacia un valor que permanece constante, durante tiempos muy largos. La presencia de tiourea en el bano, permite que el potencial se mantenga estable durante largos tiempos y que para distintas Ig, el potencial varie poco.