Procédé de dépôt d'un revêtement protecteur augmentant la résistance mécanique sur un substrat de matière plastique

L'invention porte sur un procede de depot d'un revetement protecteur augmentant la resistance mecanique, transparent, sur un substrat de matiere plastique, au moyen d'un procede de depot en phase vapeur par procede chimique assiste par plasma (PECVD). Au moins un precurseur organo-metallique et au moins un gaz reactif sont introduits dans une chambre sous vide, le plasma est produit au moyen d'un magnetron pulse, et au moins une couche est deposee avec un changement continu ou soudain sur l'epaisseur de couche concernant la composition de la couche.