Système d'éclairage pour la MICRO-LITHOGRAPHIE, équipement d'éclairage par projection équipé d'un tel système d'éclairage

Systeme (5) d'eclairage pour la micro-lithographie servant a eclairer un champ (3) d'eclairage. Un dispositif (9, 10) de distribution de la lumiere de preference integre produit une distribution bidimensionnelle de l'intensite dans un premier plan (11) d'eclairage. Un premier arrangement (12) en grille compose d'elements de grille optiques est genere par un arrangement en grille de sources de lumiere secondaires. Un dispositif a action optique supplementaire qui peut etre realise sous la forme d'un dispositif (14) de variation de l'angle d'eclairage est associe aux deux arrangements (12 ; 16) en grille. Le dispositif (14) a action optique supplementaire influence l'intensite et/ou la phase et/ou le sens de rayonnement de la lumiere (8) d'eclairage. Cette influence est telle qu'une contribution de l'intensite des elements (23, 28) de grille a l'intensite d'eclairage totale varie sur l'ensemble du champ (3) d'eclairage. L'intensite d'eclairage sur le champ d'eclairage peut ainsi etre influencee du point de vue de l'intensite d'eclairage totale et/ou du point de vue de la contribution a l'intensite depuis differentes directions d'eclairage.