Manufacturing Method of Ultre Purity Nitrous Oxide for Semiconductor and Display Industry

본 발명은 반도체 및 디스플레이 분야에서 세정제로 사용되는 초순수 아산화질소(N 2 O)의 신규한 제조방법을 제공하는 것으로서, 질산암모늄(NH 4 NO 3 )을 직접 가열하는 방식으로 열분해 하는 단계, 열분해 부산물 중 워터샤워링 및 흡착컬럼을 통과시켜 저농도의 아산화질소를 제조하는 단계 및 증류에 의한 초고순도의 아산화질소를 제조하는 단계로 구성되는 초고순도의 N 2 O를 제조하는 방법을 제공한다. 아산화질소, 초순수