Support de pièce à usiner pour un réacteur à plasma avec répartition contrôlée de puissance rf vers un anneau de kit de traitement

Dans un mandrin electrostatique, une puissance de polarisation RF est separement appliquee a une piece a usiner et a un collier de kit de traitement entourant la piece a usiner. Au moins un element a impedance variable gouverne par un controleur de systeme ajuste la repartition de puissance de polarisation RF entre la piece a usiner et le collier de kit de traitement, permettant un ajustement dynamique du champ electrique de gaine de plasma au niveau du bord extreme de la piece a usiner, pour une uniformite de champ electrique optimale dans des conditions de plasma changeantes, par exemple.