磁控溅射制备 NiO/Ni 多层膜的结构和光电性能

利用反应磁控溅射和常规磁控溅射方法交替沉积了NiO/Ni纳米多层膜，研究了不同退火环境下多层膜的相结构、微观结构演化及光电性能。XRD和TEM结果表明，沉积态薄膜呈现明显的NiO和Ni交替多层结构；大气退火的NiO／Ni多层膜被氧化成沿（111）晶面择优生长的NiO薄膜：而真空退火的NiO／Ni薄膜仍然保持着明显的多层结构，各层膜的结晶程度提高。沉积态和真空退火态的NiO／Ni多层膜呈现低可见光透过率和低电阻率的特点，电阻率达到10-5·cm数量级；大气退火的NiO／Ni多层膜呈现49.3％可见光平均透过率和高的电阻特性。