パターン形成方法、それに用いられる化合物、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、並びに、電子デバイス

【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、パターン部の膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる化合物、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する樹脂と、（Ｃ１）活性光線又は放射線の照射により第１の酸性官能基を発生する基と、活性光線又は放射線の照射により、第１の酸性官能基とは異なる第２の酸性官能基を発生する基とを有する化合物、及び、（Ｃ２）活性光線又は放射線の照射により下記一般式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）で表される構造を発生する基とからなる群より選ばれる２種以上の基を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし