ＢａｘＳｒ１−ｘＴｉＯ３−αスパッタリングターゲットおよびその製造方法

(57)【要約】 【課題】 高出力での高速スパッタリングを行ってもタ ーゲットの破壊やスパークが生じないＢａ ｘ Ｓｒ １−ｘ ＴｉＯ ３−α 組成のスパッタリングターゲットを安定 し、かつ低コストで製造できる誘電体薄膜形成用Ｂａ ｘ Ｓｒ １−ｘ ＴｉＯ ３ −α スパッタリングターゲットを得 る。 【解決手段】 スパッタリング法を用いてＢａ ｘ Ｓｒ １−ｘ ＴｉＯ ３−α （０≦ｘ≦１、０．０２<α<０．０ ５）組成の誘電膜を基板上に成膜するためのターゲット であって、４端針法で測定した比抵抗が５０ｍΩｃｍ以 下であり、且つターゲット内の比抵抗値のばらつきが５ ｍΩｃｍ以下であるＢａ ｘ Ｓｒ １−ｘ ＴｉＯ ３−α スパ ッタリングターゲット。