Dispositif et procede de traitement au plasma

L'invention concerne un dispositif et un procede de traitement au plasma permettant de remedier a l'inconvenient d'etre produit par un champ diagonal juste apres l'inflammation du plasma tout en utilisant du plasma couple par voie inductive et permettant d'inflammer le plasma de facon sure tout en enlevant le champ diagonal a l'aide d'un ecran Faraday dans un systeme a plasma couple par voie inductive. Le dispositif de traitement au plasma comprend une chambre (31), une cloche en verre (32), une bobine (42) installee sur l'exterieur de la cloche en verre (32), l'ecran Faraday (44) installe entre la cloche en verre (32) et la bobine (42), un suscepteur (33), un element inductif (49) installe sur la surface superieure de la cloche en verre (32), un premier bloc d'alimentation haute frequence (43) destine a former un champ d'induction dans la bobine (42), et un deuxieme bloc d'alimentation haute frequence (34) destine a former un champ entre le suscepteur (33) et l'element inductif (49).