氧化铟锡薄膜及其制备方法、含其的阵列基板、显示装置
2016
一种氧化铟锡薄膜及其制备方法、包含该氧化铟锡薄膜的阵列基板和显示装置。其中该氧化铟锡薄膜的制备方法包括:步骤A:制备分立的氧化铟靶材和锡靶材;以及步骤B:在同一沉积腔室中,由所述氧化铟靶材和锡靶材分别产生氧化铟粒子和锡粒子,该氧化铟粒子和锡粒子在基体上共同形成氧化铟锡薄膜。本发明的制备方法通过制备分立的氧化铟靶材和锡靶材,避免靶材重复制备,溅射工艺不用重新开始(如中途不用重新打开真空腔);相比于传统制备方法的研磨、烧结制备不同锡含量靶材的单靶材镀膜的方式,有效缩短了开发周期,且薄膜中锡含量的控制更加便捷,节省了开发成本;可应用于各种显示装置的制备。
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