수직형 전극 형성용 마스크 및 이를 이용한 수직형 전극 제조 방법

본 발명의 수직형 전극 형성용 마스크는 제1 패턴이 복수 개 형성되어 있는 제1 섀도우 마스크부; 제1 섀도우 마스크부와 평행하게 이격되어, 제1 패턴에 대응되는 위치에 제2 패턴이 복수 개 형성되어 있는 제2 섀도우 마스크부; 및 제1 섀도우 마스크부에 형성되되, 제1 패턴을 둘러싸도록 형성된 제1 격벽으로 이루어지고, 반도체 소자 칩을 이러한 수직형 전극 형성용 마스크에 배치하여 금속 증착 방법 또는 인쇄 방법 등을 이용하여 수직형 전극을 일괄적으로 형성할 수 있다.