Matériau granulaire de haute pureté, fritté, contenant du dioxyde de silicium

L'invention porte sur un procede de fabrication d'un materiau granulaire fritte contenant du dioxyde de silicium et ayant une aire de surface BET de moins de 1 m2/g et une proportion d'impuretes de moins de 50 ppm. Selon ce procede, un melange contient de la poudre de dioxyde de silicium et un compose metallique est melange de facon intensive dans une atmosphere ayant une humidite atmospherique relative de 1,0 a 100 % a des temperatures de 0 a 50 °C au moyen d'un appareil de dispersion, la masse granulaire est divisee en morceaux, puis sechee, purifiee et frittee. La teneur en humidite de la poudre de dioxyde de silicium et/ou de l'humidite atmospherique sont au moins suffisantes pour hydrolyser le compose metallique entierement.