Composition de résist positif et procédé de fabrication de motif de résist

La presente invention concerne une composition de resist positif qui comprend : un ingredient de resine (A) dont la solubilite en milieu alcalin augmente par l'action d'un acide ; et un ingredient produisant un acide (B) qui produit un acide lorsqu’il est expose a la lumiere, l'ingredient de resine (A) etant un melange d'un copolymere (A1) ayant un motif structural (a1) derive d'un ester acrylique contenant un groupe empechant la dissolution dissociable en un acide cyclique et d'un copolymere (A1’) ayant un motif structural (a1’) derive d'un ester acrylique contenant un groupe empechant la dissolution dissociable en un acide ramifie. La composition de resist positif peut former un motif de resist ayant une excellente resolution.