형광 염료가 혼합된 광가교형 포토레지스트의 형광패턴

본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서,a)기재 상에 가교반응형 폴리머 광산발생제, 형광체 및 유기용매로 이루어진 화학증폭형포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계;b)상기 노광한 후 후열반응(postbaking)으로 형광패턴을 형성하는 단계; 를 포함하는 형광패턴 형성방법에 관한 것이다. 또한 본 발명은 형광패턴 형성방법에 있어서, 기재 상에 광민감성 가교형 폴리머, 형광체 및 유기용매로 이루어진 비화학증폭형 포토레지스트 조성물을 코팅하고 패턴된 포토마스크를 올린 후 노광하는 단계를 포함하는 형광패턴형성방법에 관한 것이다.