Formation d'asperites reduite dans des microstructures de contact

L'invention concerne un dispositif comprenant des microstructures mobiles (802) qui sont configurees pour entrer en contact avec un substrat (801). Ce substrat (801) presente une structure metal-isolant-metal comprenant une couche metallique superieure ainsi qu'un isolant pourvu de motifs qui constituent des regions de contact avec une couche metallique inferieure. Ces microstructures (802) comporte des sous-couches metalliques qui forment des zones de contact rubanees (809). Lorsque le dispositif selon l'invention est utilise, une tension de polarisation est appliquee a travers les microstructures (802) et la couche metallique superieure (825), ce qui entraine l'entree en contact des microstructures et du substrat par l'intermediaire des zones de contact. Lorsqu'elles sont en contact, lesdites zones de contact sont maintenues a un potentiel qui est sensiblement inferieur a la tension de polarisation appliquee, ce qui permet de reduire la formation de structures de type asperites dans un dispositif microelectromecanique (MEM) optique configure pour moduler la lumiere.