Techniques pour la formation de couches minces par implantation avec effet de canalisation réduit

La presente invention concerne l'utilisation d'un faisceau accelerateur de particules pour former des couches minces d'un materiau a partir d'un substrat massif. Dans des modes de realisation particuliers, un substrat massif comportant une surface superieure est expose a un faisceau de particules accelerees. Ensuite, une couche mince de materiau est separee du substrat massif par un procede de clivage commande le long d'une region de clivage formee par des particules implantees a partir du faisceau. Pour ameliorer l'uniformite de la profondeur d'implantation, les effets de canalisation sont reduits par de multiples techniques. Dans une technique, un substrat massif mal coupe est soumis a l'implantation, de telle sorte que le reseau du substrat soit decale selon un certain angle par rapport au faisceau venant le percuter. Dans une autre technique, le substrat est incline pour former un certain angle par rapport au faisceau venant le percuter. Dans une autre technique, le substrat est soumis a un mouvement de juxtaposition pendant l'implantation. Ces techniques peuvent etre utilisees seules ou en combinaison.