에어로졸 데포지션으로 제조된 4H-SiC 위 Al2O3 게이트산화막의 후열처리 공정에 따른 전기적 특성

2018 
    • Correction
    • Source
    • Cite
    • Save
    • Machine Reading By IdeaReader
    0
    References
    0
    Citations
    NaN
    KQI
    []