An ultra trace Hg (II) removal method

本发明公开了一种超痕量Hg(Ⅱ)去除方法，其特征在于：将一种羟基修饰的MOF材料浸泡在含有超痕量Hg(Ⅱ)的废水中。 本发明中的羟基修饰的MOF材料对汞离子有较高的吸附容量和高选择性，以快速、高效地去除水溶液中的痕量Hg(Ⅱ)离子，吸附效果远高于其他吸附材料，最大吸附容量为278mg/g，对初始浓度为100ppb的汞离子溶液一次处理后去除率高达87.5%，残留汞离子浓度低于12.5μg/L，远低于国家废水排放标准（50μg/L)。