Systeme laser a decharge gazeuse a deux chambres, a bande tres etroite, et a vitesse de repetition elevee

L'invention concerne un systeme laser modulaire a decharge gazeuse a precurseur injecte pouvant produire des faisceaux laser pulses de haute qualite a des vitesses d'impulsion d'environ 4000 Hz ou plus et a des energies d'impulsion d'environ 5mJ ou plus. Deux chambres de decharge separees sont fournies, l'une d'elle faisant partie d'un oscillateur maitre produisant un faisceau a precurseur a bande tres etroite amplifie dans une seconde chambre de decharge. Les chambres peuvent etre commandees separement, ce qui permet d'optimiser des parametres de longueur d'onde dans ledit oscillateur maitre et des parametres d'energie d'impulsion dans la chambre d'amplification. Selon un mode de realisation prefere, l'invention concerne un systeme laser ArF excimere configure comme un oscillateur maitre et amplificateur de puissance (MOPA), et specifiquement concu pour etre utilise comme une source lumineuse destinee a la lithographie de circuits integres. Selon un mode de realisation de MOPA prefere, chaque chambre comprend un seul ventilateur tangentiel qui produit un flux gazeux suffisant pour permettre un fonctionnement a des vitesses d'impulsion de 4000 Hz ou plus par elimination de debris de la region de decharge pendant un temps inferieur a environ 0,25 millisecondes entre les impulsions. Ledit oscillateur maitre est dote d'un boitier de retrecissement de largeur spectrale presentant un miroir de reglage tres rapide qui peut commander une longueur d'onde de ligne centrale sur une base impulsion par impulsion a des vitesses de repetition de 4000 Hz ou plus et a une precision inferieure a 0,2 pm.