Photocathode a motif conductrice de chaleur pour source de faisceaux electroniques

L'invention concerne un emetteur a photocathode constituant une source de faisceaux electroniques et comprenant un substrat transmissif d'un point de vue optique concu de maniere a definir une protuberance, une matiere conductrice de chaleur occupant l'espace autour de la protuberance, et une couche photoemettrice situee sur la protuberance. Une photocathode avec une seule region d'emission genere un seul faisceau electronique, alors qu'une photocathode avec de multiples regions d'emission genere de multiples faisceaux electroniques. Le photoemetteur est positionne sur le cote du substrat face a la surface sur laquelle l'eclairage est incident. Ledit photoemetteur possede une region d'irradiation en contact avec la partie superieure de la protuberance dessinee sur le substrat, et une region d'emission en face de la region d'irradiation, ces regions etant definies par l'itineraire de l'eclairage. La matiere conductrice de chaleur situee autour de la protuberance eloigne la chaleur de cette region d'eclairage focalisee sur la photocathode. La conductivite thermique des matieres conductrices de chaleur telle que l'or, le cuivre et le platine est au moins 200 fois superieure a celle de la silice fondue, qui est une matiere a substrat generalement utilisee dans les photocathodes, eloignant efficacement la chaleur de l'interface region d'irradiation/region d'emission et permettant ainsi d'atteindre des courants superieurs a partir de la photocathode. Ceci permet alors d'atteindre des vitesses de debit superieures dans les applications, y compris la lithographie par faisceau electronique. La photocathode peut etre fabriquee par des techniques de microfabrication, et il est ainsi possible d'obtenir une tres petite taille de point d'emission (inferieure a 1 νm, correspondant de facon generale au diametre de l'extremite de la protuberance du substrat). La reduction de colonne inferieure est, par consequent, necessaire pour obtenir une taille de faisceau donnee sur la cible. La reduction de colonne inferieure peut etre obtenue dans une colonne plus courte, attenuant le flou du aux interactions electron-electron. Ceci permet d'utiliser des courants superieurs dans la colonne, ce qui augmente egalement les vitesses de debit.